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    SB-402曝光機（雙面光刻機）

    應(yīng)用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機

    產(chǎn)品品牌

    國產(chǎn)

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：國產(chǎn)

    型號：

    所屬系列：半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機

     

    SB-402曝光機（雙面光刻機）
    SB-402雙面曝光機（光刻機）

    產(chǎn)品描述

    SB-402雙面曝光機（光刻機）主要用于半導體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等制作的雙面對準和曝光。最大兼容4英寸晶圓。

     

    主要技術(shù)特點
    對準工作臺：
    高精度薄型精密雙層三維對準工作臺，采用交叉滾柱V形導軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結(jié)構(gòu)，保證了工作臺的直線性和旋轉(zhuǎn)精度。
    機械手機構(gòu)：
    機械手采用直線導軌和滾珠絲杠結(jié)構(gòu)，具有高的定位精度和重復精度。
    上版架系統(tǒng)：
    上掩模版的升降導軌選用THK可調(diào)分離型直線導軌，驅(qū)動采用高分辨率的數(shù)顯微分頭，從而保證兩掩模版的重復精度和定位精度。
    對準觀察系統(tǒng):
    雙光路結(jié)構(gòu)的臥式分離視場顯微鏡，可以獲取高清晰的圖像同時兼容CCD成像液晶顯示功能
    電氣控制系統(tǒng)：
    整機采用PLC+觸摸屏控制，提供運行狀態(tài)顯示及多種檢測功能，易于操作，控制精度高，性能穩(wěn)定。
    曝光系統(tǒng)：
    上、下兩套獨立的紫外光曝光系統(tǒng)，采用先進的結(jié)構(gòu)方案，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。

    產(chǎn)品參數(shù)

    對準工作臺指標:

     X向行程：±4mm

     Y向行程：±4mm

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