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SFQ/SFQZ系列濕法設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路、光電子器件、MEMS及分立器件、半導(dǎo)體材料加工、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域，用于各種半導(dǎo)體基片及類似材料制造過程中濕化學(xué)處理工藝，有手動(dòng)、半自動(dòng)及全自動(dòng)三種配置。

六大專有技術(shù)

濕法清洗設(shè)備系統(tǒng)集成技術(shù)

氣/液自動(dòng)傳輸及控制技術(shù)

材料與化學(xué)工程防護(hù)技術(shù)

溫度傳遞及精確控制技術(shù)

晶片自動(dòng)傳輸及自動(dòng)控制技術(shù)

溶液流場(chǎng)均勻性控制技術(shù)

主要技術(shù)特點(diǎn)：

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：設(shè)計(jì)緊湊、潔凈、防腐、安全、多種式樣機(jī)架可供選擇

控制方式：采用高性能PLC或工控機(jī)實(shí)現(xiàn)集中控制，結(jié)合單元功能控制簡(jiǎn)化操作

槽體配置：材料：NPP、PVDF、PTFE、石英、PVC、不銹鋼等多種材料

功能：恒溫控制（加熱/制冷）、循環(huán)、過濾、自動(dòng)補(bǔ)液、抖動(dòng)、旋轉(zhuǎn)、超聲/兆聲、溢流、快排、鼓泡、干燥等

定制設(shè)計(jì)：根據(jù)用戶要求提供工藝配置及技術(shù)支持

□   適應(yīng)晶圓片尺寸：4＂～8＂
□   傳輸方式：上片盒→浸泡腔體→腐蝕腔體→清洗干燥腔體→收片盒
□   主軸旋轉(zhuǎn)速度：200 ～ 5000rpm ±5rpm
□   DI水兆聲噴頭：頻率1MHz，功率75W
□   溶液過濾精度：21μm 9μm 0.2μm（三級(jí)過濾）
□   溶液噴射壓力：500～3000PSI（增壓）
□   NMP和DI-WATER具有扇性噴射和柱狀噴射模式
□   溶液溫度范圍：常溫～85℃，精度±2℃
□   氮?dú)膺^濾精度：0.003μm
□   設(shè)備采用電腦程序控制，能設(shè)置并存儲(chǔ)超百種工藝程序
□   室內(nèi)凈化級(jí)別：100級(jí)

DFQ系列全自動(dòng)單晶圓濕處理設(shè)備

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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