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    EVG 雙面對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機(jī)

    庫(kù)       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付
     EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域,涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級(jí)線條器件的圖形光刻應(yīng)用。

     

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    提問(wèn):
     

    這個(gè)對(duì)準(zhǔn)誤差會(huì)不會(huì)超過(guò)0.5微米??

    gookjll  2017-08-07

     理想的情況下是不會(huì)超過(guò)0.5微米,主要看客戶的產(chǎn)品。

    2017-08-07

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品:

    服務(wù)熱線

    4001027270

    功能和特性

    價(jià)格和優(yōu)惠

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