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    EVG 雙面對準光刻機

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-光刻設備-雙面光刻機

    庫       存:

    1

    產       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-光刻設備-雙面光刻機

     EVG光刻機主要應用于半導體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統(tǒng)(MEMS)、硅片凸點、化合物半導體等領域,涵蓋了微納電子領域微米或亞微米級線條器件的圖形光刻應用。

     

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    提問:
     

    這個對準誤差會不會超過0.5微米??

    gookjll  2017-08-07

     理想的情況下是不會超過0.5微米,主要看客戶的產品。

    2017-08-07

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產品:

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    4006988696

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