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    包郵 關(guān)注:1339

    EVG 光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    EVG

    庫       存：

    5

    產(chǎn)       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付
            1985年，EVG研制出世界上首臺綜合了高精度背面光學(xué)對位的光學(xué)雙面對位系統(tǒng)。這種高精度的背面對位技術(shù)是許多運(yùn)用，包括微系統(tǒng)和微機(jī)電技術(shù)，得以實(shí)現(xiàn)和發(fā)展的關(guān)鍵。基于機(jī)械的靈活性與組件式結(jié)構(gòu)，EVG的620系列光刻機(jī)能滿足所有最嚴(yán)格的單面和雙面精確對準(zhǔn)的硅片光刻要求。 EVG光刻機(jī)可根據(jù)用戶的不同要求，具有手動操作，研究及發(fā)展和大批量全自動生產(chǎn)應(yīng)用等不同的機(jī)型。今天，EVG提供世界上最先進(jìn)的對位系統(tǒng)。EVG620系列可提供最好的精度，適應(yīng)性，易用性和模塊升級能力。EVG620系列可實(shí)現(xiàn)最大150毫米的不同尺寸、形狀及厚度的材料的對準(zhǔn)。EVG還有EVG610, EVG6200, IQ-Aligner等多種光刻機(jī)型號，可應(yīng)對客戶各種不同的需求。

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    提問:
     
    問

    這個(gè)對準(zhǔn)誤差會不會超過0.5微米？？

    gookjll  2017-08-07

    問

    請問這個(gè)設(shè)備是雙面對準(zhǔn)的嗎？對準(zhǔn)精度多高？？

    losaners2016  2017-08-17

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    4001027270

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