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BG-406系列曝光機（光刻機）

產品描述

BG-406系列曝光機（光刻機) 主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導體器件制造工藝中的對準及曝光。該系列曝光機由4英寸、6英寸單/雙面曝光機組成，可實現(xiàn)單/雙面對準、單面曝光、間隙曝光、全曝光。

主要技術特點
對準工作臺
對準精度高，漂移小。精密楔形誤差補償機構實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩模版使用壽命。
曝光系統(tǒng)
采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球鏡等精密光學件，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。
分離視場顯微鏡
在X、Y方向通過操作桿可實現(xiàn)大范圍掃描觀察，可進行單視場或雙視場切換，提高對準效率和套刻精度，同時兼容CCD成像液晶顯示功能。
控制系統(tǒng)
電氣控制采用工控機，人機界面操作菜單清晰，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設備的關鍵件采用進口或專業(yè)廠家制造，提高了設備的穩(wěn)定性、可靠性，同時提供個性化服務。

產品參數(shù)

對準工作臺行程:

X向：±5mm Y向：±5mm

Z向：8mm θ向：±5°

□掩模尺寸：7″×7″

□基片尺寸：φ6″

□曝光方式：軟接觸、硬接觸

真空接觸、間隙曝光、全曝光

□頂部對準顯微鏡

總倍率：

100X （50X可選）

掃描范圍：50mm×50mm

調焦范圍：8mm

28-90mm（φ4″基片）

75-150mm（φ4″-φ6″基片）

對準精度：±0.5um

□底部對準顯微鏡

總倍率：330X

物鏡分離距離：

X向：50-140mm

Y向：±12mm

對準精度：±2um

□曝光分辨率：1um （真空接觸）

□曝光間隙： 1-500um

□曝光面積： φ160 mm或φ108 mm

□曝光時間：0-999s 連續(xù)可調

□曝光不均勻性：

±5% (曝光面積：φ160 mm)

±3% (曝光面積：φ108mm)

□曝光系統(tǒng)及波長

采用250W進口超高壓汞燈，UV365

□所需設施：

輸入電壓：～220v±22v(50Hz)

整機功率：1KW

室內光線：紅光、黃光

壓縮空氣: 0.5～0.7MPa

氮氣： 0.2～0.4MPa

真空： -0.08～-0.14MPa

□體積及重量：

外型尺寸： 1022mm×850mm×1330mm

重量：350kg

BG-406系列曝光機（單雙面光刻機）

應用于半導體行業(yè)：

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