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    URE-2000S/A型紫外雙面光刻機

    應(yīng)用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機

    產(chǎn)品品牌

    國產(chǎn)

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

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    面議
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    品牌：國產(chǎn)

    型號：

    所屬系列：半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機

     

    URE-2000S/A型紫外光刻機-雙面
    URE-2000S-A型紫外光刻機-雙面

    主要技術(shù)指標：

    曝光面積：150mm×150mm

    分辨力：1μm（膠厚1.5 μm的正膠）

    對準精度：±3μm（雙面）

    最大膠厚：500μm（SU8膠）

    掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch

    樣片尺寸：直徑Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm)

    照明均勻性：±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)

    汞燈功率：1000W（直流）

    掩模相對于樣片運動行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°



    技術(shù)特點：

    該機采用國內(nèi)首創(chuàng)的CCD圖像底面對準技術(shù)，單曝光頭正面曝光實現(xiàn)雙面對準的總體設(shè)計技術(shù)。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精

    密對準工件臺結(jié)構(gòu)設(shè)計，掩模—樣片對準過程直觀，套刻對準速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準平板、真空吸附式，操作方便。

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