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ST-1500i投影光刻機

產(chǎn)品品牌

國產(chǎn)-中科院

庫       存：

1

產(chǎn)       地：

全國

數(shù)       量：

減少 增加

價       格：

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品牌：國產(chǎn)-中科院

型號：

所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-其它光刻設(shè)備

 

ST-1500i投影光刻機

ST-1500i 投影光刻機
ST-1500i 投影光刻機ST-1500i 投影光刻機

主要技術(shù)指標(biāo)：

曝光場面積：10mm×10mm

分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠）；

套刻精度：1μm

物鏡倍率：1：10

掩模尺寸:4 inch、5 inch

基片尺寸：2 inch、3 inch、4 inch、6 inch

工件臺運動范圍：X：150mm、 Y：150mm；

工件臺運動定位精度：±0.65μm；


技術(shù)特點：

采用CCD檢焦系統(tǒng)實現(xiàn)整場調(diào)平、自動逐場調(diào)焦或自動選場調(diào)焦曝光。10倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約10mm×10mm 采用專利技術(shù)——積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)均明，進口精密光柵、進口電機、進口導(dǎo)軌、進口絲杠實現(xiàn)精確工件定位和曝光拼接，可適應(yīng)2英寸、3英寸、4英寸、6英寸基片。具備對準(zhǔn)和套刻功能，操作方便、實用性強。

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