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    德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機μPG 101

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-其它光刻設備

    產品品牌

    海德堡Heidelberg

    庫       存：

    1

    產       地：

    全國

    數       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌：海德堡Heidelberg

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-其它光刻設備

     

    德國海德堡 激光直寫光刻機μPG 101

    適合用于科研領域
    臺式激光直寫    機
    操作簡單，可支持灰度光刻



    μPG101是一款經濟實惠且易于操作的圖形發(fā)生器，適用于直寫和少批量的掩模板制作。該系統(tǒng)可用于MEMS、Bio MEMS、Integrated Optics、Micro Fluidics或任何其他需要高精度、高分辨率微結構的制作。

    μPG101的面積僅為60x75cm²，設計精巧，將所有電子組件集成在系統(tǒng)中，由系統(tǒng)控制主機運作?；赪indows®的控制接口，使用戶可以輕松進行數據轉文件，經過手動或自動對準之后，即可開始曝光。

    μPG101主要提供簡單快速的方式來創(chuàng)建微結構。系統(tǒng)可透讀寫模塊的更換，以滿足不用的分辨率和寫入速度的要求。它是市面上唯一達到亞微米結構的桌上型光刻系統(tǒng)，即使是偏小網格，依然具有非常高精度的結構。實時自動對焦系統(tǒng)可在曝光期間實時監(jiān)控和校正聚焦位置，從而確保整個曝光區(qū)域的高分辨率和可重復性。精密網格和實時自動對焦裝置是專業(yè)微圖型發(fā)生器的標準要求。

    μPG101的應用包括 Life Science 、MEMS 、 Semiconductor 、Sensors、Actuators、MOEMS、Material Research、Nano-Tubes、Graphene以及任何其他需要微結構的應用。

    功能


    寫入速度高達90毫米²/分鐘







    基板6 x 6”


    降至0.6µm結構

    標準或紫外光源

    多種數據輸入格式

    基本灰度曝光模式

    對準攝像系統(tǒng)

    多種可交換的寫模式

    矢量和柵格曝光模式


     

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