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    德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA150

    產(chǎn)品品牌

    海德堡Heidelberg

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：海德堡Heidelberg

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-其它光刻設(shè)備

     德國海德堡 激光直寫光刻機 MLA150

    德國高精密激光直寫繪圖機
    非接觸式曝光
    可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻

    MLA150專為便于操作而設(shè)計，涵蓋過去30年中開發(fā)的激光直寫設(shè)備的所有技術(shù)知識。它提供了單層和多層應(yīng)用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接觸式的，因此它可以克服無光罩曝光技術(shù)的局限性。

    與其他圖形產(chǎn)生器不同的地方不僅在于MLA150易于使用，還有極快的曝光速度。使用小至1微米的結(jié)構(gòu)曝光100x100mm²的區(qū)域僅需要不到10分鐘。透過使用三個不同分辨率的集成攝像頭，可在2分鐘內(nèi)完成多層應(yīng)用中的套刻對位，套刻對準精度優(yōu)于500nm。

    MLA150無光罩激光直寫設(shè)備直接曝光圖形的靈活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域的工作效率。

     

    功能

    基板到9 x 9”

    標準版:1µm結(jié)構(gòu)

    高分辨率版本:結(jié)構(gòu)可達600納米

    ²暴露面積150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可選)

    非接觸式曝光

    光源為405 nm和375 nm

    基于SLM光引擎

    多種數(shù)據(jù)輸入格式

    校準精度為500納米

    背面對齊

    實時自動對焦

    抵制數(shù)據(jù)庫

    自動標記和序列化

       
                                 

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