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    DS-2000/14K型無掩膜光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    國產(chǎn)

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：國產(chǎn)

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-其它光刻設(shè)備

     

    DS-2000/14K型無掩膜光刻機(jī)

    主要技術(shù)指標(biāo)：

    單次曝光面積：1.4mm×1mm

    最大曝光基片：100mm ×100mm

    對準(zhǔn)精度：±0.8μm（半自動對準(zhǔn)）

    最大膠厚：300μm（SU8膠）

    自動逐場對焦；

    分辨力：1μm；

    X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺

    X、Y平移重復(fù)定位精度：0.65μm（3σ）

    Z向運動精度：1μm


    技術(shù)特點：

    該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均

    勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準(zhǔn)系統(tǒng)（可同時使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設(shè)定采用微機(jī)控制，菜單界面友好，操作簡便。

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