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    微波PECVD 那諾

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-PECVD

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-PECVD

    微波PECVD：能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到最大可達(dá)12“ 直徑的基片上.采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置含1路惰性氣體、3路活性氣體。

    微波PECVD產(chǎn)品特點：

    • 不銹鋼或鋁制腔體
    • 極限真空可達(dá)10-7Torr
    • RF淋浴頭，HCD或微波等離子源可選
    • 高達(dá)12"(300mm)直徑的樣品臺
    • RF射頻偏壓樣品臺
    • 水冷樣品臺
    • 可加熱到800 °C樣品臺
    • 加熱的氣體管路
    • 加熱的液體傳送單元
    • 抗腐蝕的渦輪分子泵組
    • 1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體，帶MFC
    • 最大可支持8路MFC，帶排放箱及氣體閥組
    • 預(yù)真空鎖及自動上下載腔門
    • 氣動控制閥
    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
    • 菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護(hù)
    • 完整的安全聯(lián)鎖

    微波PECVD產(chǎn)品應(yīng)用：

    • 等離子誘導(dǎo)表面改性
    • 等離子清洗
    • 等離子聚合
    • SiO2, Si3N4, a-Si, DLC以及其它薄膜
    • CNT選擇性生長

    微波PECVD設(shè)備型號：

    • NPE-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立系統(tǒng)
    • NPE-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立系統(tǒng)
    • NPE-3000：基于PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)
    • NRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng)
    • NSP-4000：濺射/PECVD雙系統(tǒng)

    微波PECVD能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到最大可達(dá)12"直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。


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    問

    請問可以制備單層石墨烯嗎？

    lybw  2023-01-06

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