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等離子增強(qiáng)型化學(xué)沉積設(shè)備(PECVD) 北京中科信電子裝備有限公司
PECVD是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)。
主要特點(diǎn):
1.采用臥式熱壁型模式,有效提升產(chǎn)能;
2.采用高分辨率熱偶及防干擾技術(shù),確保射頻放電時(shí)溫度場(chǎng)穩(wěn)定;
3.完善的射頻自動(dòng)匹配系統(tǒng),及全自動(dòng)工藝參數(shù)控制系統(tǒng);
4.高可靠的真空系統(tǒng),獨(dú)特的反應(yīng)管位移控制裝置,確保真空系統(tǒng)長(zhǎng)期使用穩(wěn)定;
5.可選的4管配置及自動(dòng)上下料機(jī)械手配置,充分考慮客戶的個(gè)性化需求;
6.可選的背靠背8管PECVD,減少占地,節(jié)約廠房空間及運(yùn)行成本。
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