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    平板PECVD

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-鍍膜設備-PECVD

    庫       存：

    10

    產       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-鍍膜設備-PECVD

     應用領域：

    1）該設備是一個靈活和功能強大的PECVD工藝設備

    2）采用真空進樣室進樣可進行快速的晶片更換，采用多種工藝氣體組合，并擴大了允許的工藝溫度范圍

    3）具有最大的工藝靈活性，適用于集成電路、半導體照明、微機電系統(tǒng)、光電子、微電子和微流體技術

    應用工藝：

    1）可在襯底表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜

    2）高品質，高速率sio2沉積，應用于光子器件

    3）可沉積p型、n型摻雜薄膜

    4）可沉積疊層薄膜

    主要特點：

    1）可處理8 "晶片，也具有小批量（ 2"/4"多片）生產能力

    2）采用一系列的電極進行襯底溫度控制，其溫度范圍為室溫至550° C

    3）6 至12路氣箱為工藝流程和工藝氣體提供了選擇上的靈活性，并可以放置在遠端，遠離主要工藝設備

    4）氣體通過頂電極上的噴淋頭式進氣口進入反應室

    5）工作壓強0.5-1.0torr

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