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中普尼^TM（chinapony^TM）公司是最早從事凈化半導體技術產品研制工作的企業(yè)，為國際領先的凈化行業(yè)先驅之一。CPN-PSD-100/OP凈化顯影（勻膠）機是中普尼^TM（chinapony^TM）公司多年來的優(yōu)質產品，一直暢銷于世界各地，廣泛應用于機械電子、化工、醫(yī)藥衛(wèi)生、精密儀器制造、科研領域等行業(yè)。

品牌：英文品牌：CHINAPONY^TM 中文品牌：中普尼 ^TM

是行業(yè)內唯一一家入選“中國品牌大會暨建國六十周年全國品牌盤點表彰盛典”并榮獲"中國半導體行業(yè)影響力十大暢銷品牌"的全球頂級制造商!

CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機：

CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機亦是CPN-PS系列產品的基礎品種之一，是半導體器件制造過程中的專用工藝設備，采用先進的單片微型機程序自動控制，實現(xiàn)噴霧顯影工藝，電路清晰完整，由于控制系統(tǒng)穩(wěn)定，在進行工藝中不飛片，顯影速度快（30S）和節(jié)省顯影液，主要用于科研和生產單位大規(guī)模集成電路和其他半導體器件的光刻工藝中作顯影之用。

本機顯影工藝采用了先進的噴霧方式，可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機的轉數(shù)，程序時間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內調整。其程序為延時吸片-顯影-漂洗-干燥-延時復位。

采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整，特別是對較細線條電路采用此工藝可得到很高的效果。

本設備除能顯影工藝外,亦可進行涂膠工藝.

主要技術指標：

顯影工位：1個工位

程序時間：顯影 1-99秒或999秒

漂洗 1-99秒或999秒

干燥 1-99秒或999秒

旋轉器轉數(shù)：500-8000轉/分（連續(xù)可調）

硅片直徑：Φ1—Φ100mm

凈化效果：100級（美國聯(lián)邦標準）

操作區(qū)風速：0.3-0.5米/秒

氣流狀態(tài)：垂直層流

外形尺寸：1620mm（高）*650（寬）*800

整機包裝重量：150KG

氮氣源：N2管道或鋼瓶（進氣壓力0.2-0.3MP/cm²）

智能硅片顯影機、凈化顯影機、自動顯影機、凈化涂膠機、中普尼顯影-勻膠一體機

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