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    包郵 關(guān)注:669

    Laurell勻膠顯影機(jī)EDC-650Mz-23NPPB

    產(chǎn)品品牌

    美國LAURELL

    規(guī)格型號：

    套

    發(fā)貨期限：

    30個工作日天

    庫       存：

    10

    產(chǎn)       地：

    中國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：美國LAURELL

    型號：套

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-涂膠設(shè)備-半自動勻膠機(jī)

     濕法刻蝕顯影機(jī)產(chǎn)于美國，是原裝的濕法刻蝕設(shè)備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業(yè)提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng)，目前客戶已遍布全球。還有WS-1000濕法刻蝕設(shè)備，WS-1000m濕法刻蝕設(shè)備等多種半導(dǎo)體濕制成設(shè)備。

    勻膠顯影機(jī)(英文名：Developing) 
    產(chǎn)地：美國    

    一、產(chǎn)品概述：
        650型勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機(jī)由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。

    二、勻膠顯影機(jī)工作原理：
    顯影系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮?dú)猓┑茸詈蟮奶幚聿襟E。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機(jī)還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。
    適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）
    光刻膠顯影（KrF/ArF）
    SU8厚膠顯影
    顯影后清洗
    PostCMP清洗
    光罩去膠清洗
    光刻膠去除
    金屬Lift-off處理
    刻蝕微刻蝕處理

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    問

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    semiconductor  2020-03-02

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