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    低壓化學氣相沉積設備

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-鍍膜設備-LPCVD

    產(chǎn)品品牌

    濟南力冠

    庫       存：

    10

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：濟南力冠

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-鍍膜設備-LPCVD

     產(chǎn)品簡介：

    化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition）是半導體集成電路制造的重要工序之一，主要用于Si3N4、SiO2、Poly-Si、PSG、BPSG、非晶硅薄膜的生長。它是將原材料氣體（或者液態(tài)源氣化TEOS）熱能激活發(fā)生化學應用而在基片表面生成固體薄膜。低壓化學氣相沉積是在低壓下進行的，由于氣壓低，氣體分子平均自由程大，使生長的薄膜均勻性好，而且基片可以豎放故裝片量大，適合于工業(yè)化生產(chǎn)。

    產(chǎn)品特點：

    1. 用工業(yè)計算機對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應室壓力實現(xiàn)自動控制。

    2. 采用進口壓力控制系統(tǒng)，閉環(huán)控制，穩(wěn)定性高。

    3. 采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。

    4.工藝管、真空系統(tǒng)密封可靠，使用安全

    5.反應氣體分子送氣和族射送氣，避免氣相反應產(chǎn)生

    6. 具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。

    7. 具有良好的人機界面，靈活的工藝性能。

     

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