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    LPCVD

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

    產(chǎn)品品牌

    AS賽瑞達(dá)

    規(guī)格型號(hào):

    4-6"

    發(fā)貨期限:

    90天天

    庫(kù)       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)-山東省

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:AS賽瑞達(dá)

    型號(hào):4-6"

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

      LPCVD是用加熱的方式,在低壓條件下,使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低,氣體分子的平均自由程和擴(kuò)散系數(shù)大,故可采用密集裝片方式來(lái)提高生產(chǎn)率,并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD用于淀積Poly-Si,Si3N4, SiO2, 磷硅玻璃,硼磷硅玻璃,非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路,電力電子,光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

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