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    美Nanovea HS1000P三維表面形貌儀

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體測試設(shè)備-表面形貌測試-其他

    產(chǎn)品品牌

    美Nanovea

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：美Nanovea

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體測試設(shè)備-表面形貌測試-其他

     

    美Nanovea HS1000P三維表面形貌儀
    美Nanovea HS1000三維表面形貌儀.
    產(chǎn)品簡介
     HS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試，具有測量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場使用。
    產(chǎn)品特性
    采用白光共聚焦色差技術(shù)，可獲得納米級的分辨率
    測量具有非破壞性，測量速度快，精確度高
    測量范圍廣，可測透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；
    尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面
    不受樣品反射率的影響
    不受環(huán)境光的影響
    測量簡單，樣品無需特殊處理

    Z方向,測量范圍大：為27mm
    主要技術(shù)參數(shù)
    掃描范圍：400mm×600mm(最大可選600mm*600mm)
    掃描步長：5nm
    掃描速度：1m/s
    Z方向測量范圍：27mm
    方向測量分辨率：2nm
    產(chǎn)品應(yīng)用
    MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)

    主要用于

    --生產(chǎn)現(xiàn)場三維形貌測試的理想選擇 

    --高速三維表面形貌檢測

     

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