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電子束蒸鍍機（高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機）是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導(dǎo)電薄膜、光學薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。

可用于生產(chǎn)、科學實驗及教學，可根據(jù)用戶要求專*門訂制。

可根據(jù)用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式, 通過PLC 和工控機聯(lián)合實現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制, 包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等，從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

設(shè)備特點

設(shè)備具有真*空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點，配備 E 型電子束蒸發(fā)源和電阻蒸發(fā)源。PID自動控溫，具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優(yōu)點。

可根據(jù)用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式,通過PLC和工控機聯(lián)合實現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制,包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等，從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

真空性能

極限真空：7×10^-5Pa～7×10^-6Pa

設(shè)備總體漏放率：關(guān)機12小時，≤10Pa

恢復(fù)工作真空時間短，大氣至7×10^-4Pa≤30分鐘；

設(shè)備構(gòu)成

E 型電子束蒸發(fā)槍、電阻熱蒸發(fā)源組件（可選配）、樣品掩膜擋板系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)及真空測量系統(tǒng)、分子泵真空機組或低溫泵真空機組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、樣品傳遞機構(gòu)，膜厚控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成。

可選件：膜厚監(jiān)控儀，恒溫制冷水箱。

熱蒸發(fā)源種類及配置

E 型電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 1套

功率 6kW～10kW 其它功率(可根據(jù)用戶要求選配）

坩堝 1～8只可根據(jù)用戶要求選配

電阻熱蒸發(fā)源組件 1～4套（可根據(jù)用戶要求配裝）

電阻熱蒸發(fā)源種類

-鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發(fā)源組件

-石英舟熱蒸發(fā)源組件

-鎢極或鎢藍熱蒸發(fā)源組件

-鉭爐熱蒸發(fā)源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）

-束源爐熱蒸發(fā)組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）

操作方式

手動、半自動

1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體電子束蒸鍍機非標定制真空度高、抽速快

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