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    電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 科睿設(shè)備

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-電子束蒸發(fā)

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付
    電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 科睿設(shè)備 設(shè)備商城

    （E-Beam Evaporator System）
    儀器介紹:
    美國專業(yè)的制造商，擁有20多年豐富的經(jīng)驗(yàn)在：電子束蒸發(fā)設(shè)備、磁控濺射設(shè)備、熱蒸發(fā)設(shè)備等。有以下功能模式：
    electron beam evaporation， 電子束蒸發(fā)；
    resistive evaporation，熱阻蒸發(fā)；
    ion beam assisted deposition (IBAD)， 離子束輔助蒸發(fā)鍍膜；
    effusion cell，瀉流源。


    技術(shù)參數(shù)：
    Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸 –   scaled to match the specific application；
    Pumping: 分子泵或冷凝泵；
    Load Lock: 手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；
    Process Control: PC / PLC自動(dòng)控制界面，菜單控制，數(shù)據(jù)獲取和遠(yuǎn)程控制 ；
    In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚監(jiān)控，光學(xué)膜厚監(jiān)控；
    RGA殘余氣體分析；
    Substrate Fixture: 單片，多片，行星式襯底夾具；
    Substrate Holders: 可加熱，冷卻，偏壓，旋轉(zhuǎn)；
    Ion Source: 襯底預(yù)清洗，納米表面改性。

    Deposition Techniques:
    Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC，具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；
    Electron Beam Evaporation，電子束蒸發(fā)；
    Thermal Evaporation，熱蒸發(fā)；
    Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics，有機(jī)蒸發(fā)（用于OLED/ PLED和有機(jī)電子）；
    Glancing Angle Depostion (GLAD),傾斜角沉積
    Cathodic Arc Plasma Deposition,陰極等離子體輔助沉積。

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