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NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6"旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3500（A）帶有14”立方形不銹鋼腔體，3個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。在選配方面，350 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點：

不銹鋼腔體
260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制
完全的安全聯(lián)鎖功能
預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

選配項：

RF、DC濺射
熱蒸鍍能力
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測儀
基片的RF射頻等離子清洗

應(yīng)用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
光學(xué)以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

型號：

NSC-4000：基于PC計算機(jī)全自動控制的獨立式系統(tǒng)
NSC-3500：基于PC計算機(jī)全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng)
NSC-3000：PC計算機(jī)全自動控制的臺式系統(tǒng)
NSC-1000：半自動控制的臺式系統(tǒng)

(以下為雙系統(tǒng)型號)

NSR-4000：濺射/RIE系統(tǒng)
NSP-4000：濺射/PECVD系統(tǒng)
NST-4000：濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)

磁控濺射鍍膜機(jī) NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng) 那諾-馬斯特

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