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    包郵 關(guān)注:714

    DENTON Discovery 磁控濺射系統(tǒng)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-磁控濺射機

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    美國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    丹頓真空的Discovery系列在世界許多著名的研究機構(gòu)得到廣泛的應(yīng)用，是業(yè)內(nèi)公認(rèn)的靈活、可靠的磁控濺射系統(tǒng)。從15年前開發(fā)以來，該系統(tǒng)已經(jīng)銷售超過100臺，在國內(nèi)銷售12臺。

    Discovery®系列適合于研發(fā)及小批量生產(chǎn)。系統(tǒng)采用獨特的共焦濺射結(jié)構(gòu)，能夠使用較小的磁控濺射靶槍在較大的面積的工件上得到較好的均勻性（例如：采用傳統(tǒng)的垂直濺射方式，為了在6英寸工件上得到±5%的均勻性，需要使用8英寸直徑靶槍，而采用共焦濺射方式，則可以采用3英寸磁控濺射靶槍，即可達(dá)到同樣的均勻性指標(biāo)）。因此在同樣的要求下，采用的靶槍及電源相對較小，所以能夠降低設(shè)備成本及運行成本，同時，丹頓真空也提供傳統(tǒng)的垂直濺射方式系統(tǒng)。

    Discovery® 系列都可以安裝多個磁控濺射靶槍，可以實現(xiàn)多種濺射模式，包括直流/射頻/脈沖濺射，共濺射，射頻偏壓濺射；可以實現(xiàn)三級加熱，最高加熱溫度可以達(dá)到900 °C；可以配置進(jìn)樣室（單片或多片），最大可以處理的工件直徑可以達(dá)到 250mm ；系統(tǒng)真空室規(guī)格從18英寸（457mm）到 35英寸（890mm）可選；高真空采用分子泵或低溫泵獲得；可以采用PLC觸摸屏控制系統(tǒng)或計算機控制系統(tǒng)。

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    提問:
     
    問

    工作電壓多少伏？多個磁控濺射靶槍可同時濺射的有幾個，有水冷系統(tǒng)嗎？

    whhg  2017-07-10

    答

     工作電壓：380V, 635：最多四個耙槍，785：最多五個耙槍，可選水冷系統(tǒng)。

    2017-07-10

    問

    請問設(shè)備使用的靶材是平面型的還是輥型的？靶材的利用率能達(dá)到67%嗎？

    dfft  2017-08-03

    問

    分子泵的抽速多少？你們的靶材的利用率有多高？

    gookjll  2017-08-07

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