網(wǎng)站首頁

中|EN

當前位置: 首頁 » 設備館 » 半導體加工設備 » 鍍膜設備 » 磁控濺射機 »ATC ORION系列 磁控濺射系統(tǒng)
    •
    包郵 關注:702

    ATC ORION系列 磁控濺射系統(tǒng)

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

    產(chǎn)品品牌

    AJA

    規(guī)格型號：

    套

    發(fā)貨期限：

    16-20個月天

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    美國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付
    • 商品詳情
    • 商品參數(shù)
    • 評價詳情(0)
    • 裝箱清單
    • 售后保障

    品牌：AJA

    型號：套

    所屬系列：半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

     AJA International的ATC Orion系列磁控濺射系統(tǒng)是ATC Flagship旗艦系列下的一款高性價比的緊湊型物理氣相沉積設備。Orion系列的高真空和超高壓真空濺射系統(tǒng)都沿用了許多ATC濺射系統(tǒng)的成熟設計和通用配件。標準的ATC Orion部件（腔體，框架，集群法蘭等）一般都有現(xiàn)貨，因此我們能夠有效縮短設備交貨時間。
     
    Orion 8有一款特殊設計的系統(tǒng)，可以集成4個2"磁控濺射靶源，可原位偏轉。ATC Orion系列濺射系統(tǒng)可以輕易相互連接，或是連接其他ATC系統(tǒng)，集成多腔（如，金屬/氧化物）或多功能混合系統(tǒng)（如，濺射/蒸發(fā)/PLD/離子束刻蝕）。
    主要特點
    l 經(jīng)濟型臺式濺射系統(tǒng)
    l 可集成5個1.5英寸共濺射靶
    l 向上或向下濺射
    l 沉積均勻性+/-2.5% @ 3" (75mm)基片
    l 選配load-lock預真空室
    l 基片加熱溫度850C，旋轉速率0-40rpm，直流和射頻偏壓，50mmZ軸可調工作距離
    l 真正的共焦沉積系統(tǒng)，滿足單層和多層薄膜沉積應用
    l 可集成4路MFC氣路，可進行反應濺射
    l 計算機控制或半自動控制
    l 高真空或超高真空
     

    咨詢

    購買之前，如有問題，請向我們咨詢

    提問:
     

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產(chǎn)品：

    服務熱線

    4001027270

    功能和特性

    價格和優(yōu)惠

    微信公眾號