服務(wù)熱線
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977 8” Wafer Cleaning System977 8英寸 晶圓清洗系統(tǒng)——977清洗機(jī)
Standard Features: 基本配置
Supporting up to 8"round substrates 最大支持到8吋的工作臺(tái)
Atomizing cleaning 支持二流體清洗
Programmable recipes 可編程菜單
Storage capacity: 8 recipes 存儲(chǔ)容量,可以存儲(chǔ)8種
Internal vacuum generator 內(nèi)含真空發(fā)生器
Spinner velocity range: 200-3,000 RPM 工作臺(tái)轉(zhuǎn)速可控,
200-3000轉(zhuǎn)/分鐘
Nitrogen and water adjustable pressure gages 二氧化氮和水
可調(diào)壓力可調(diào)檢測(cè)
Process monitoring and display 工作可控和展示
Automatic covering/opening 自動(dòng)開合
Safety interlock 內(nèi)含安全鎖
Light tower
Dimensions (WxDxH): 410x625X946 mm 尺寸
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