服務熱線
4001027270
1) 大幅提高成品率
?微粒去除性能可對應25納米級裝置。
40 個/W (particle size 0.06um)
?2 流體濺射具有很高的塵埃除去性能
?蝕刻的面內(nèi)均一性良好:2 %以下(氧化膜在希HF處理的情況)
?特にエピ成長前の洗浄に高影響(メタル完全除去、ゴミ極?。?/p>
2) 価格 優(yōu)勢
?MTK的價格是大日本、TEL等企業(yè)的同樣裝置價格的一半。
3 )運 營 成本
?藥液循環(huán)使用
?純水消費量:1 Liter/min (one chamber)
3) 設置 面積 小
?2~3 m 2 (2 chamber) (參考 :水槽式: 13m2 )
?1.5~2 m 2 (1 chamber)
4) 臭氧 水 清洗
? 卓越的塵埃、有機物、金屬除去性能( 臭氧濃度:最大30ppm)
? 使用臭氧水、可省去硫酸、鹽酸、雙氧水購買之前,如有問題,請向我們咨詢