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    NEE-4000(A)全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 那諾

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-電子束蒸發(fā)

    庫       存:

    100

    產       地:

    中國-上海市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-電子束蒸發(fā)

    NEE-4000(A)全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

    概述:NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,其中樣品臺位于主腔體內,二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預真空鎖,使得電子束源腔體保持真空的情況下,實現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時,他可以通過第三方的預真空鎖來實現(xiàn),這可以設置于立方體的左側。通過PC計算機控制,系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力,以及對組分或組分梯度進行編程的能力。

    NEE-4000(A)全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)特點:

    • 順序蒸發(fā)或共蒸發(fā)
    • 雙電子束源
    • 多凹槽電子槍
    • 可編程電子束掃描
    • 10KW開關電源
    • 渦輪分子泵,極限真空5x10-7Torr
    • 自動上下載片
    • 材料和襯墊更換非常方便
    • 晶振式膜厚監(jiān)測儀
    • 通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機控制
    • 菜單驅動,四級訪問密碼保護
    • 完全的安全聯(lián)鎖

    NEE-4000(A)全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Features:

    • Sequential or Co-Evaporation 
    • Dual E-Beam Source 
    • Multi-Pocket E-Gun 
    • Programmable Beam Scan
    • 10 KW Switching Power Supply  
    • Turbomolecular Pump, 10-7Torr  
    • Auto Load/Unload  
    • Easy Material and Liner Change
    • Crystal Thickness Monitor 
    • PC Controlled with LabVIEW 
    • Recipe Driven, Password Protected  
    • Fully Safety Interlocked

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