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本機適用于液晶、特種器件、特種電路、傳感器及制版、曬版、印刷電路板、標(biāo)牌和在金屬薄片上制作精密圖形等。
| 1、基片尺寸（mm）： | ≤200*200，厚度（mm）：≤5 |
| 2、基片材料： | 硅片、玻璃、陶瓷、鈮酸鋰、覆箔板、鋁板、銅板和不銹鋼板等 |
| 3、掩模材料： | 玻璃、滌綸片 |
| 4、曝光幅面（mm）： | 200*200 |
| 5、曝光譜線（nm）： | 365、405 |
| 6、曝光均勻性： | ≤±10% |
| 7、曝光方法： | （a）真空接觸曝光；（b）接觸曝光
|
| 8、曝光分辨率（mm）： | ≤0.01 |
| 9、曝光時間（s）： | 0.1~99.9 |
| 10、外界要求： | 真空源≤-0.08Mpa。電源220V±10% |
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