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關(guān)注:1161
URE-2000S/A型紫外光刻機(jī) 成都晶普科技有限公司
庫(kù) 存:
100
產(chǎn) 地:
中國(guó)-四川省
產(chǎn)品名稱:URE-2000S/A型紫外光刻機(jī)
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主要技術(shù)指標(biāo):
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曝光面積:150mm×150mm |
分辨力:1μm(膠厚1.5 μm的正膠) |
對(duì)準(zhǔn)精度:±3μm(雙面) |
最大膠厚:500μm(SU8膠) |
掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch |
樣片尺寸:直徑Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可擴(kuò)展為15mm) |
照明均勻性:±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm) |
汞燈功率:1000W(直流) |
掩模相對(duì)于樣片運(yùn)動(dòng)行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6° |
技術(shù)特點(diǎn):
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該機(jī)采用國(guó)內(nèi)首創(chuàng)的CCD圖像底面對(duì)準(zhǔn)技術(shù),單曝光頭正面曝光實(shí)現(xiàn)雙面對(duì)準(zhǔn)的總體設(shè)計(jì)技術(shù)。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精密對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),掩模—樣片對(duì)準(zhǔn)過(guò)程直觀,套刻對(duì)準(zhǔn)速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準(zhǔn)平板、真空吸附式,操作方便。 |
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