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當前位置: 首頁 » 設備館 » 半導體加工設備 » 光刻設備 » UV光刻機 »URE-2000S/A型紫外光刻機 成都晶普科技有限公司
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    URE-2000S/A型紫外光刻機 成都晶普科技有限公司

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-四川省

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產(chǎn)品名稱:URE-2000S/A型紫外光刻機

    主要技術(shù)指標:

      曝光面積:150mm×150mm
      分辨力:1μm(膠厚1.5 μm的正膠)
      對準精度:±3μm(雙面)
      最大膠厚:500μm(SU8膠)
      掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch
      樣片尺寸:直徑Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm)
      照明均勻性:±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)
      汞燈功率:1000W(直流)
      掩模相對于樣片運動行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°

    技術(shù)特點:

    該機采用國內(nèi)首創(chuàng)的CCD圖像底面對準技術(shù),單曝光頭正面曝光實現(xiàn)雙面對準的總體設計技術(shù)。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精密對準工件臺結(jié)構(gòu)設計,掩模—樣片對準過程直觀,套刻對準速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準平板、真空吸附式,操作方便。

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