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當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 光刻設(shè)備 » UV光刻機 »JKG-3型 高精度光刻機 上海學(xué)澤光學(xué)機械有限公司
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    JKG-3型 高精度光刻機 上海學(xué)澤光學(xué)機械有限公司

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    勞動牌

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：勞動牌

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    JKG-3型 高精度光刻機  上海學(xué)澤光學(xué)機械有限公司 設(shè)備商城

     
     

    本機是制造中、大規(guī)模集成電路，傳感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻設(shè)備。

    主要技術(shù)參數(shù)

    1、適用的掩模尺寸： a、150*150*2.3mm（選購）　　b、125*125*2.3mm　　c、100*100*2.3（選購）
    2、適用的硅片尺寸： a、ф125mm（選購）　　b、ф100mm　　c、ф75mm（選購）
    3、曝光分辨率 2чm
    4、掩模與硅片之間的相對位移范圍： X、Y±5mm，θ±5°
    5、掩模旋轉(zhuǎn)范圍： ±5°
    6、承片臺的球座平面至掩模板面微調(diào)范圍 0~1mm
    7、曝光燈源： 200W超高壓直流汞燈
    8、曝光譜線： 436、405、365（nm）
    9、曝光系統(tǒng)能量不低于 18mw/cm2
    10、曝光系統(tǒng)的照度均勻度： ф110mm范圍內(nèi)±3%；ф136mm范圍內(nèi)±5%
    11、顯微鏡的照明波長： ≈545nm
    12、曝光時間控制范圍： 0~99.99S
    13、雙目分離視場顯微鏡的放大倍數(shù)
    　　（1）目鏡共二種：10X,15X　?。?）平視場物鏡共三種：4X,10X,16X　?。?）合成放大倍率：40X-240X
    14、分離視場調(diào)節(jié)范圍 30~80mm
    15、真空接觸壓力： ≤-0.06Mpa
    16、供電電源 AC220V±10% 　50HZ
    17、環(huán)境溫度： 22±2°C
    18、相對溫度： ≤60%
    19、凈化等級： 100級
    20、外形尺寸： W960*D1000*H1400mm

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    提問:
     
    問

    您好！請問這個光刻機的汞燈光強密度是多少呢？

    yyz521  2021-11-18

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品：

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