電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 沈陽(yáng)金研
1、
設(shè)備用途:本設(shè)備用于制備各類高熔點(diǎn)金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜、導(dǎo)電薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)對(duì)薄膜材料的科研及小批量制備。
2.技術(shù)數(shù)據(jù):
極限真空度(分子泵系統(tǒng)) |
5.0×10-4Pa |
壓升率 |
0.33Pa/H |
電子束蒸發(fā)源 |
e型電子槍 |
陽(yáng)極電壓 |
6KV、10KV |
功率 |
0—6KW可調(diào) |
坩堝容積 |
10-15cc |
轉(zhuǎn)盤可放樣品數(shù) |
6個(gè) |
樣品最大尺寸 |
Ф60mm |
加熱溫度 |
室溫~400℃ |
控溫精度 |
±1℃ |
樣品公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào) |
0-60RPM |
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2.1設(shè)有固定式樣品擋板一套
2.2主真空室立式U型真空室前開門,雙層水冷
2.3主真空室真空獲得系統(tǒng)分子泵,機(jī)械泵,高真空氣動(dòng)擋板閥
2.4石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀速率分辨率0.1-99.9à/分,厚度分辨率1à
2.5氣路系統(tǒng)設(shè)有一路高精度氧氣質(zhì)量流量控制器,流量0-50SCCM
3.技術(shù)規(guī)格:JEBC-xxxx