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    電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 沈陽金研

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-電子束蒸發(fā)

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-遼寧省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 沈陽金研

    1、 設(shè)備用途：本設(shè)備用于制備各類高熔點(diǎn)金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜、導(dǎo)電薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)對薄膜材料的科研及小批量制備。

    2.技術(shù)數(shù)據(jù)：
    極限真空度（分子泵系統(tǒng)） 5.0×10-4Pa 壓升率 0.33Pa/H
    電子束蒸發(fā)源 e型電子槍 陽極電壓 6KV、10KV
    功率 0—6KW可調(diào) 坩堝容積 10－15cc
    轉(zhuǎn)盤可放樣品數(shù) 6個 樣品最大尺寸 Ф60mm
    加熱溫度 室溫～400℃ 控溫精度 ±1℃
    樣品公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào) 0-60RPM    
    2.1設(shè)有固定式樣品擋板一套
    2.2主真空室立式U型真空室前開門，雙層水冷
    2.3主真空室真空獲得系統(tǒng)分子泵，機(jī)械泵，高真空氣動擋板閥
    2.4石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀速率分辨率0.1－99.9à/分，厚度分辨率1à
    2.5氣路系統(tǒng)設(shè)有一路高精度氧氣質(zhì)量流量控制器，流量0-50SCCM

    3.技術(shù)規(guī)格：JEBC-xxxx

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