型號(hào)：SC-450，SPS-TG；

磁控濺射技術(shù)是最常用的一種物理氣相沉積技術(shù)。磁控濺射鍍膜機(jī)可用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設(shè)備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛使用。

技術(shù)規(guī)格特點(diǎn)：

- 腔體：鋁合金或不銹鋼材料可供客戶(hù)選擇，不同尺寸的箱式腔室可選；

- 泵：分子泵，冷凝泵可選；

- Load Lock樣品傳輸腔室：手動(dòng)或自動(dòng)傳輸，高真空，支持多種樣品襯底；

- 與手套箱兼容；

- 工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制，使用GUI進(jìn)行工藝控制、數(shù)據(jù)處理、遠(yuǎn)程支持；

- 原位監(jiān)控：石英晶振監(jiān)測(cè)(QCM)，光學(xué)監(jiān)測(cè)，殘余氣體分析，其他原位監(jiān)測(cè)技術(shù)或控制；

- 襯底固定：?jiǎn)我r底固定，多襯底固定，行星式襯底固定，客戶(hù)化襯底固定方式；

- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等；

- 離子源：襯底預(yù)先清洗輔助沉積，納米尺度表面修飾；

- 磁控濺射沉積技術(shù)：射頻(RF)，直流(DC)，脈沖直流(Pulsed-DC)；

- 靜態(tài)濺射，共濺射，反應(yīng)濺射，在線濺射；

儀器特點(diǎn)：

• 腔體材料：不銹鋼，鋁，或者Bell Jar；

• 分子泵：70，250，500 l/sec； 一級(jí)泵：機(jī)械泵或干泵；

• 13.5MHz, 300-600W射頻電源；1KW直流電源；

• QCM在線厚度測(cè)量，厚度分辨率<0.1nm；

• 帶有觀察窗的門(mén)，方便樣品取放；

• Labview軟件，PC控制；

• 多重密碼保護(hù)；

• 全安全互鎖設(shè)計(jì)；

選配功能：

• 向上，向下，側(cè)向?yàn)R射；

• 射頻，直流、脈沖直流濺射；

• 共濺射，反應(yīng)濺射；

• 組合濺射；

• 射頻、直流偏置(1000V)；

• 基底加熱：不高于700攝氏度；

• 厚度監(jiān)控；

• 基底射頻等離子清洗；

• Load-Lock，以及自動(dòng)樣品取放；

不同型號(hào)選擇：

• NSC系列，立式磁控濺射系統(tǒng)；

• NSC系列，立式緊湊磁控濺射系統(tǒng)；

• NSC系列，臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)；

• 雙腔體系統(tǒng)，NSR系列，磁控濺射+反應(yīng)離子刻蝕(RIE)；

• 雙腔體系統(tǒng)，NSP系列，磁控濺射+PECVD；

• 雙腔體系統(tǒng)，NST系列，磁控濺射+熱蒸發(fā)；

參考用戶(hù)：