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    Universal-300 新型12英寸CMP設備 天津華海清科機電

    產品品牌

    天津華海清科機電

    庫       存:

    100

    產       地:

    中國-天津市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    10000.00
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    品牌:天津華海清科機電

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-晶圓減薄拋光設備-CMP磨拋機

    Universal-300 新型12英寸CMP設備 天津華海清科機電

    Universal-300是我國首臺進入大生產線的12”CMP設備,該機型技術含量高、性能穩(wěn)定,適用于集成電路制造、晶圓基片生產、CMP研磨材料研發(fā)和相關的科學研究。


    Universal-300設備優(yōu)勢:
    1.使用全自動化“干進干出”模式;
    2.模塊化拋光單元創(chuàng)新設計;
    3.各個模塊具有獨立的控制系統(tǒng);
    4.拋光工藝參數(shù)數(shù)據(jù)實時采集和存儲;
    5.多種終點控制系統(tǒng)。



    Universal-300-B
     Universal-300-B是一個獨立控制的12”自動CMP拋光單元系統(tǒng)。它沿用了Universal-300機型的成熟技術和功能,具備獨特的優(yōu)勢:
     ·使用自動化“干進濕出”方式;
     ·12英寸模塊化拋光單元創(chuàng)新設計;
     ·可兼容4”、6”、8”、12”wafer,適用范圍廣;
     ·可集成多種終點檢測,實現(xiàn)精準工藝控制;
     ·拋光工藝參數(shù)數(shù)據(jù)實時采集和存儲;
     ·適用于科研院所、實驗室、材料研發(fā)機構。
     天津華海清科機電科技有限公司成立于2013年,是天津市政府與清華大學踐行“京津冀一體化”國家戰(zhàn)略,為推動我國化學機械拋光(CMP)技術和設備產業(yè)化成立的高科技企業(yè)。

     華海清科主要從事CMP設備和工藝及配套耗材的研發(fā)、生產、銷售與服務,核心團隊成員來自清華大學及業(yè)內專業(yè)人才,擁有CMP技術專利100余項,產品可廣泛應用于極大規(guī)模集成電路制造、三維封裝、微機電系統(tǒng)制造、晶圓平坦化、基片制造等領域。
     

     華海清科依靠國際化的經營理念和人才團隊、先進的工藝試驗條件,致力于為相關領域的企業(yè)、高校和科研院所提供先進的CMP設備及工藝的集成解決方案。并遵循“科技服務社會”的公司宗旨,持續(xù)進行以優(yōu)良的品質和卓越的服務贏得國內外用戶的信賴


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