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ABM-LED光刻機(標(biāo)準(zhǔn)型)適用于藍(lán)光LED、紅光LED、綠光LED、白光LED、綠光LED、TFT-LCD光刻,OLED光刻的研發(fā)和生產(chǎn),ABM-LED光刻機(標(biāo)準(zhǔn)型)具有高穩(wěn)定性、堅固耐用、性能卓越等突出特點。因此被大多數(shù)研發(fā)機構(gòu)和生產(chǎn)企業(yè)所青睞。
光學(xué)系統(tǒng):
曝光時間調(diào)解器:0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
365-400nm光強傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán);
聲控功率警報裝置可防止系統(tǒng)功率超過設(shè)定指標(biāo);
有安全保護裝置的溫度及其氣流傳感器;
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度;
波長濾片檢查及安裝裝置
抗衍射反射功能高效反光鏡;
二向色的防熱透鏡裝置;
防汞燈泄漏裝置;
配備蠅眼棱鏡裝置
配備近紫外光源
--365 nm 輸出強度 – 大約 18-20 mW/ cm2
--400 nm 輸出強度 – 大約 30-35 mW/ cm2
主要配置:
6“光源系統(tǒng)
配置2英寸或4英寸卡盤
手動系統(tǒng)(半自動系統(tǒng), 自動對準(zhǔn)系統(tǒng)可選)
支持電源350w
90-600倍連續(xù)放大CCD(方便LED基片對準(zhǔn))
棱鏡對準(zhǔn)裝置,使最小雙視場對準(zhǔn)縮小為10mm(支持LED碎片光刻)
主要性能指標(biāo):
光強均勻性Beam Uniformity::
--<±1% over 2” 區(qū)域
--<±2% over 4” 區(qū)域
--<±3% over 6” 區(qū)域
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um
支持接近式曝光,特征尺寸CD:
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時
--2um 50um 間距時
正面對準(zhǔn)精度 ±0.5um
支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強或恒定功率模式
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