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    包郵 關(guān)注:397

    美國ABM正面對準(zhǔn)光刻機 怡和瑞豐

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    怡和瑞豐

    規(guī)格型號:

    ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    美國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    10000.00
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    品牌:怡和瑞豐

    型號:ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    美國ABM正面對準(zhǔn)光刻機 怡和瑞豐 設(shè)備商城



                            設(shè)備型號ABM/6/350/NUV/DCCD/M


    光學(xué)系統(tǒng):

       曝光時間調(diào)解器:0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
       365-400nm光強傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán);
       聲控功率警報裝置可防止系統(tǒng)功率超過設(shè)定指標(biāo);
       有安全保護裝置的溫度及其氣流傳感器;
       全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度;
       波長濾片檢查及安裝裝置
       抗衍射反射功能高效反光鏡;
       二向色的防熱透鏡裝置;
       防汞燈泄漏裝置;
       配備蠅眼棱鏡裝置
       配備近紫外光源,
        --220 nm 輸出強度 – 大約 8-10 mW/ cm2
        --254 nm 輸出強度 – 大約 12-14 mW/ cm2
        --365 nm 輸出強度 – 大約 18-20 mW/ cm2
        --400 nm 輸出強度 – 大約 30-35 mW/ cm2

    主要配置:

     
      6“,8”光源系統(tǒng) 
       可支持2“,3”,4“,6”,8“(圓/方片)及碎片光刻(支持特殊工藝卡盤設(shè)計)
       手動系統(tǒng),半自動系統(tǒng),
       支持電源350-2000 Watt
       支持深紫外近紫外波長(可選項)
          CCD或顯微鏡對準(zhǔn)系統(tǒng)

     


    主要性能指標(biāo):

       光強均勻性Beam Uniformity::
        --<±1% over 2” 區(qū)域
        --<±2% over 4” 區(qū)域
        --<±3% over 6” 區(qū)域
       接觸式樣曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.35 um
       接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):  0.5  um
       支持接近式曝光,特征尺寸CD:
        --0.8um  硬接觸
        --1um    20 um 間距時
        --2um    50um 間距時
       正面對準(zhǔn)精度±0.5um
      
    支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻,特征尺寸:100um-300um
       支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
       支持真空、接近式、接觸式曝光
       支持恒定光強或恒定功率模式

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