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    Oxidator150-高溫氧化爐

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-爐類設(shè)備-高溫爐

    產(chǎn)品品牌

    Centrotherm

    庫       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    德國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    ￥1000.00
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    品牌：Centrotherm

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-爐類設(shè)備-高溫爐

     

    Oxidator 150

    高溫氧化爐

     

    Oxidator 150 高溫爐由 centrotherm thermal solutions 設(shè)計開發(fā)，專門用于硅-碳化合物（SiC）的氧化處理。設(shè)備最高可承受 1400°C 的工藝溫度，氧化工藝使用 O2、N2O、NO、NO2 或濕法氧化氣體，靈活性和工藝質(zhì)量極佳。

    Oxidator 150 裝有非金屬加熱裝置和雙真空，是當(dāng)前市場上最安全的毒性氣體氧化爐。

     

    批量處理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它組合
    最高加熱率可達(dá) 7.5 K/min
    批量規(guī)模高達(dá) 50片硅片（150 mm）
    工藝壓力：850 mbar 至常壓下

     

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