JPGF系列鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍：
適用于鍍制單層膜、合金膜及多層膜
JPGF系列鍍膜機(jī)技術(shù)特點(diǎn)：
配備DC、RF磁控濺射靶，可實(shí)現(xiàn)單靶濺射、DC/RF共濺等工藝模式
JPGF系列鍍膜機(jī)主要技術(shù)參數(shù)：
北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司（原北京儀器廠）創(chuàng)建于1954年，總部位于中央商務(wù)區(qū)（CBD）的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū)，占地面積31064平方米，建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質(zhì)量體系認(rèn)證。共有真空獲得、真空測(cè)量、真空應(yīng)用三大類產(chǎn)品，從低真空到超高真空30多個(gè)系列160多個(gè)品種。產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于航天航空、電子信息、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過50多年對(duì)真空技術(shù)的探索，通過與全國(guó)多所大專院校、研究院所進(jìn)行的多次合作開發(fā)，以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā)，北儀創(chuàng)新公司始終站在中國(guó)真空行業(yè)的前沿。
在真空測(cè)量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學(xué)多層全自動(dòng)鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)（DC、MC、RF濺射技術(shù)）以及PECVD技術(shù)等方面處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先，并有多項(xiàng)科研成果獲得國(guó)家專利。近年來，為多個(gè)院校、研究院所開發(fā)制造多臺(tái)用于研究薄膜太陽能電池的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎(chǔ)上，2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國(guó)內(nèi)首條自行設(shè)計(jì)制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線，其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù)，用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積，在相對(duì)低的設(shè)備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量，產(chǎn)品的性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同等水平，設(shè)備銷往廣東、福建、浙江等地區(qū)，改變了以往我國(guó)非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線依靠進(jìn)口的現(xiàn)狀。
北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅(jiān)持“誠(chéng)信 精益”的企業(yè)精神，不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進(jìn)技術(shù)，以“顧客先導(dǎo) 持續(xù)改進(jìn)”的價(jià)值觀在合作中實(shí)現(xiàn)共贏。
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