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Filmlab-R100 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
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2
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中國(guó)
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可使用常規(guī)F基氣體刻蝕Si、SiO、SiN、石英等材
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不用HF,可以使用CF4,SF6,CHF3,C4F8,O2,Ar,等各種F基氣體,特殊也可以訂做Cl基氣體的。
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