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關(guān)注:569
Filmlab-R100 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
發(fā)貨期限:
合同簽訂6個(gè)月天
庫(kù) 存:
2
產(chǎn) 地:
中國(guó)
可使用常規(guī)F基氣體刻蝕Si、SiO、SiN、石英等材
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不用HF,可以使用CF4,SF6,CHF3,C4F8,O2,Ar,等各種F基氣體,特殊也可以訂做Cl基氣體的。
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7X24小時(shí),工藝及設(shè)備售后支持