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    Filmlab-R100 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

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    2

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

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      可使用常規(guī)F基氣體刻蝕Si、SiO、SiN、石英等材

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    提問(wèn):
     

    你們這個(gè)用的是什么氣體??HF嗎?

    gookjll  2017-08-07

     不用HF,可以使用CF4,SF6,CHF3,C4F8,O2,Ar,等各種F基氣體,特殊也可以訂做Cl基氣體的。

    2017-08-12

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品:

    服務(wù)熱線

    4001027270

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