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    OAI 5000E型光刻機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    OAI

    庫       存：

    10000

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：OAI

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

     

    型號5000E大面積光刻機用于基板和顯示器

    OAI 5000E型大面積掩光刻機是一種先進的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，頂級，亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的LED顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。

    Model 5000E Large Area Mask Aligner for Substrates and Displays

    光刻機Model5000e Mask AlignerThe OAI Model 5000E Large Area Mask Aligner is an advanced, high-performance, fully-automated mask Aligner and exposure tool that delivers ultra precise, Topside, sub-micron alignment and resolution for large, flat panel applications. Its flexible design allows printing on various substrates - round or square - up to 300mm or 20”x20”. The exposure system is compatible with photo resist in Near, Mid, or Deep UV range, and features computer-controlled LED microscope lighting for viewing in less-than-ideal viewing environments. 

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