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磁控濺射卷繞鍍膜機
磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上,進行單層或多層鍍膜。
磁控濺射卷繞鍍膜設備與蒸發(fā)卷繞鍍膜設備相比,生產效率較低、設備成本高,這是由鍍膜原理所決定的。但磁控濺射具有鍍膜溫度低、可任意位置安放多個靶連續(xù)鍍多層膜、鍍膜材料適應范圍寬、膜層厚度可控、細膩、均勻、附著牢固等優(yōu)點。
可用磁控濺射方法在柔性基材上鍍制各種介質膜,如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5等;金屬和合金膜如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等;用ITO、AZO等陶瓷靶可鍍透明導電膜;用多層光學膜結構鍍AR減反膜、HR高反膜、AR+ITO高透導電膜、低輻射Low-E和陽光控制膜等。主要用于汽車、火車、輪船等前擋及玻璃門窗的貼膜,建筑門窗及幕墻貼膜,防靜電和電磁貼膜,裝飾貼膜和包裝膜、太陽能暖房貼膜,電加熱器膜,防霜霧透明膜,FPD平板顯示用透明電極膜,在金屬帶上鍍光學多層膜做薄膜太陽能電池等。如ITO透明導電膜可以作為冷發(fā)光材料,在棉布表面鍍上SiO2可制成防電磁輻射的防護服,鍍Ni的海綿繞制后可做鎳氫電池,鍍上多種材料的基材可做電子書、柔性顯示器件等。
磁控濺射卷繞鍍膜技術由于覆蓋領域廣泛,雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜技術起步晚,但發(fā)展極為迅速,在未來的高科技領域和環(huán)保節(jié)能領域將大有可為。
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