服務(wù)熱線
4001027270
用途
低壓擴散爐是在工藝工程中,將反映腔室內(nèi)氛圍精確控制在低于一個標準大氣壓范圍值內(nèi),再進行晶硅電池制造中的摻雜工藝。
特點
1、可配工藝管數(shù)為五管;
2、70~120Ω/□區(qū)間的5點方阻均勻性可達到4% 、3%、3%;
3、磷源節(jié)約70%,氮氣節(jié)約95%,COO優(yōu)勢明顯;
4、產(chǎn)能≥1000片/管 ;
5、工藝時間80-90min;
6、可在原有擴散爐上升級改造;
7、適用于磷擴和硼擴工藝;
8、爐門密封采用雙層結(jié)構(gòu),確保腔內(nèi)壓力穩(wěn)定;
9、可選配(MES接口、自動上下料、上下位機控制、在線倒片機構(gòu))。
核心技術(shù)指標
70~120Ω/□區(qū)間的5點方阻均勻性可達到4% 、3%、3%。
應(yīng)用領(lǐng)域
PV
核心技術(shù)參數(shù)
1、適用硅片尺寸:125mm×125mm /156mm×156mm及非標尺寸硅片;
2、裝片量:≥1000片/管
3、工作溫度范圍:600~1200℃;
4、恒溫區(qū)長度及精度:±0.5℃/1300mm;
5、氣體流量控制精度: ±1%F.S;
6. 氣路系統(tǒng)氣密性:1×10-7pa.m3/s;
7. 真空系統(tǒng)漏率:≤4mbar/min(冷態(tài))≤6mbar/min(熱態(tài));
8. 壓力調(diào)節(jié)范圍:50~800mbar,連續(xù)可調(diào);
9. 五點PROFILE熱偶串級控溫。
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