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一、擴(kuò)散爐簡(jiǎn)介
擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體加工中的典型熱處理設(shè)備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)中進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。

二、擴(kuò)散爐特點(diǎn)

1、軟著陸載片裝置，避免了SiC槳的遮擋影響，提高了擴(kuò)散均勻性，同時(shí)槳的清洗周期大幅度延長(zhǎng)。

2、高精度溫度控制，新型爐體設(shè)計(jì)，提高了溫度穩(wěn)定性，配合高精度溫控儀的使用，保證工藝過(guò)程中溫度的快速穩(wěn)定。

3、關(guān)鍵件采用進(jìn)口管件，且為半導(dǎo)體級(jí)別；優(yōu)質(zhì)的元器件組合，從而保證成膜質(zhì)量。

三、擴(kuò)散爐主要技術(shù)參數(shù)

◆工藝管數(shù)量：1-4管

◆工藝管口徑：Φ90value="360" numbertype="1" negative="True" hasspace="False">-360mm（3～12英寸）

◆結(jié)構(gòu)型式：臥式熱壁型、立式或其他形式，可根據(jù)客戶需求定制

◆工作溫度范圍：400～1280℃

◆恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度±value=".5" numbertype="1" negative="False" hasspace="False">0.5℃/value="1080" numbertype="1" negative="False" hasspace="False">1080mm

◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆氣體流量設(shè)定精度:±1％F.S

◆氣路系統(tǒng)氣密性： 1×10-7pa.m3/s

◆超凈工作臺(tái)：凈化等級(jí)：100級(jí)（萬(wàn)級(jí)廠房）

噪音：≤62dB（A）

震動(dòng)：≤3μm

◆控制方式：工業(yè)微機(jī)控制

◆記錄工藝曲線數(shù)量及工藝步數(shù)不受限制

北京晶伏華控電子設(shè)備有限公司可根據(jù)客戶需求定制各種非標(biāo)：擴(kuò)散爐、擴(kuò)散爐控制系統(tǒng)、擴(kuò)散爐多臺(tái)監(jiān)控系統(tǒng)、焊接爐、硒化爐、烤盤(pán)爐、氣氛爐、烤盤(pán)爐、焊接爐、真空爐、升華爐、隧道爐、氧化爐、退火爐、LPCVD爐、氫氣爐、工業(yè)爐體等各種工業(yè)、實(shí)驗(yàn)電爐等高溫設(shè)備。專業(yè)團(tuán)隊(duì)個(gè)性化定做，廠家直接供貨，歡迎廣大客戶來(lái)電來(lái)函。

擴(kuò)散爐

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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