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    單晶圓清洗機

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體清洗設(shè)備-標準清洗-單片自動清洗機

    產(chǎn)品品牌

    芯矽科技

    發(fā)貨期限:

    60天天

    庫       存:

    1000

    產(chǎn)       地:

    中國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:芯矽科技

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體清洗設(shè)備-標準清洗-單片自動清洗機

     單晶圓清洗: 
    顯影: 適合各式凸塊、RDL 及封裝制程之光阻顯影, 先進制程8寸、 12寸晶圓顯影液 Spray、 Puddle 、Spin 工藝 清洗: 前道制程,先進封裝制程,凸塊制程等, 于鍍 膜前、 上光阻前、 蝕刻後、 離子子植入后、 CMP后及 flux Clean等晶圓清洗制程. 蝕刻: UBM、RDL 、BGBM及各種金屬層的刻蝕,去光阻 各式晶圓之厚膜光阻清洗及 metal lift off 制程光阻去除 光罩清洗: 掩膜版的清洗,光阻去除
    Footprint : 1800 (W) x 1800 (D) x 2000(H) mm

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