擴散爐應用于半導體器件,分立器件,光電子器件,電力電子器件,太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸。
咨詢
shangdangshengjie 2017-08-25
可配工藝管外徑:2-8英寸
可配工藝管數(shù)量:1-4管/臺
工作溫度范圍:400-1286
恒溫區(qū)長度及精度:300-1250mm 800-1286度
單點溫度穩(wěn)定性:800-1286度 +-0.5度/24h
最大可控升溫速度:15度/min
最大降溫速度:5度/min
我司可為用戶量身定制非標設備
售后保障
質保期一年。24小時到現(xiàn)場調修。