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	高溫氧化爐用于SiC或Si的高溫氧化等工藝由青島精誠(chéng)華旗提供價(jià)格：￥10000.00 品牌：青島精誠(chéng)華旗銷量：0 評(píng)論：0	2017-06-29
	高溫退火爐應(yīng)用領(lǐng)域用于SiC、GaN等的高溫活化退火等工藝價(jià)格：￥10000.00 品牌：青島精誠(chéng)華旗銷量：0 評(píng)論：0	2017-06-29
	LPCVD用于4/8英寸多晶硅,氮化硅,氧化硅（或LTO）,SIPO薄膜生長(zhǎng)工藝價(jià)格：￥10000.00 品牌：青島精誠(chéng)華旗銷量：0 評(píng)論：0	2017-06-29
	石墨烯LPCVD應(yīng)用：用于石墨烯薄膜生長(zhǎng) 青島精誠(chéng)華旗定制價(jià)格：￥10000.00 品牌：青島精誠(chéng)華旗銷量：0 評(píng)論：0	2017-06-29
	氧化/擴(kuò)散爐系列應(yīng)用于集成電路,分立器件,光電子器件,電力電子器件價(jià)格：￥10000.00 品牌：青島精誠(chéng)華旗銷量：0 評(píng)論：0	2017-06-29

青島精誠(chéng)華旗微電子設(shè)備有限公司