擴散爐，氧化擴散爐產品應用：應用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領域，適用2~8英寸工藝尺寸
 產品名稱： 氧化/擴散爐系列 |
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| 應用領域：半導體 |
| 關 鍵 字：擴散爐，氧化擴散爐 |
| 產品咨詢電話：4008-110044 |
| 產品詳細描述： |
產品應用：應用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領域，適用2~8英寸工藝尺寸
擴散爐產品特點：
◆工業(yè)計算機控制系統(tǒng)，對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門等動作進行自動控制
◆采用懸臂送片器：操作方便、無摩擦污染等
◆關鍵部件均采用進口，確保設備的高可靠性
◆工藝管路采用進口閥門管件組成-氣密性好、耐腐蝕、無污染（管路均采用EP級電拋光管路），流量控制采用進口質量流量計（MFC）
◆控溫精度高，溫區(qū)控溫穩(wěn)定性好；
擴散爐主要技術指標
◆工作溫度：200～1300℃
◆加熱體控制點：3/5點
◆爐體恒溫區(qū)：450mm/600mm/800mm/1100mm
◆恒溫區(qū)精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃
◆單點溫度穩(wěn)定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
◆最大可控升溫速度：15℃/min
◆最大降溫速度：5℃/min（900～1300℃）
◆供電：三相四線，380VAC/50HZ
◆局部凈化等級：100級。
◆氧化系統(tǒng)：干氧、濕氧（氫氧內外點火）
歡迎索取相應詳盡的技術資料及共研相應項目的解決方案。
(青島華旗科技有限公司，2009年)，為專業(yè)的IC集成電路及器件工藝、半導體材料（晶體生長等）、半導體特氣及廢氣處理、精密真空熱處理爐（磁性材料等，成套）設備及解決方案的高科技研發(fā)制造企業(yè)。致力于為IC集成電路、功率器件、MEMS器件、LED、太陽能電池、新材料等制造廠家及科研院所提供先進的工藝設備（含成套設備及解決方案）。
出色地完成了部分國家863項目（如GaN厚膜晶體生長的HVPE系統(tǒng)、MOCVD系統(tǒng)等）等。
GB/T19001-2008(ISO9001:2008)質量管理體系認證。
主要產品：
氧化擴散爐系列、LPCVD 系統(tǒng)、PECVD系統(tǒng)、HVPE系統(tǒng)、MOCVD系統(tǒng)、RTP快速熱處理、氣瓶柜、半導體尾氣（廢）處理SCRUBBER，真空熱處理爐、鏈式爐系列、擴散爐體系列等。
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