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    SFQ\DYX\ECD濕化學(xué)工藝設(shè)備

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    1

    產(chǎn)       地：

    中國

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    SFQ系列濕法清洗設(shè)備 

    SFQ/SFQZ系列濕法設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路、光電子器件、MEMS及分立器件、半導(dǎo)體材料加工、太陽能光伏等領(lǐng)域，用于各種半導(dǎo)體基片及類似材料制造過程中濕化學(xué)處理工藝，有手動、半自動及全自動三種配置。

    六大專有技術(shù)

    濕法清洗設(shè)備系統(tǒng)集成技術(shù)

    氣/液自動傳輸及控制技術(shù)

    材料與化學(xué)工程防護(hù)技術(shù)

    溫度傳遞及精確控制技術(shù)

    晶片自動傳輸及自動控制技術(shù)

    溶液流場均勻性控制技術(shù)

    主要技術(shù)特點：

    系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：設(shè)計緊湊、潔凈、防腐、安全、多種式樣機架可供選擇

    控制方式：采用高性能PLC或工控機實現(xiàn)集中控制，結(jié)合單元功能控制簡化操作

    槽體配置：材料：NPP、PVDF、PTFE、石英、PVC、不銹鋼等多種材料
       
       功能：恒溫控制（加熱    /制冷）、循環(huán)、過濾、自動補液、抖動、旋轉(zhuǎn)、超聲/兆聲、溢流、快排、鼓泡、干燥等

    定制設(shè)計：根據(jù)用戶要求提供工藝配置及技術(shù)支持

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