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    濕法刻蝕設(shè)備—?dú)W萊熙CSE

    庫(kù)       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    全國(guó)

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
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    濕法刻蝕設(shè)備—歐萊熙CSE

    設(shè)備名稱

    濕法刻蝕設(shè)備

    設(shè)備形式

    室內(nèi)放置型

    設(shè)備種類

    單片刻蝕、槽式刻蝕

    操作方式

    手動(dòng)/自動(dòng)

    每批最大處理量

    50片

    單槽清洗量

    50片/2盒

    被清洗硅片尺寸

    3寸 / 4寸/5寸/6寸/8寸

     

     

    最大產(chǎn)量

    視客戶工藝周期

    時(shí)間控制

    1s

    溫度控制

    0.1攝氏度

    轉(zhuǎn)移時(shí)間

    酸槽到水槽轉(zhuǎn)移時(shí)間小于2秒

    均勻性

    開槽均勻性±5μm

    節(jié)拍

    節(jié)拍可調(diào)根據(jù)實(shí)際工藝時(shí)間而定

    用途

    用于硅，二氧化硅，氮化硅，碳化硅等晶圓片或者玻璃片的刻蝕



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