服務(wù)熱線
4001027270
設(shè)備名稱 |
濕法刻蝕設(shè)備 |
設(shè)備形式 |
室內(nèi)放置型 |
設(shè)備種類 |
單片刻蝕、槽式刻蝕 |
操作方式 |
手動/自動 |
每批最大處理量 |
50片 |
單槽清洗量 |
50片/2盒 |
被清洗硅片尺寸 |
3寸 / 4寸/5寸/6寸/8寸 |
最大產(chǎn)量 |
視客戶工藝周期 |
時間控制 |
1s |
溫度控制 |
0.1攝氏度 |
轉(zhuǎn)移時間 |
酸槽到水槽轉(zhuǎn)移時間小于2秒 |
均勻性 |
開槽均勻性±5μm |
節(jié)拍 |
節(jié)拍可調(diào)根據(jù)實際工藝時間而定 |
用途 |
用于硅,二氧化硅,氮化硅,碳化硅等晶圓片或者玻璃片的刻蝕 |
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