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    單晶圓兆聲清洗機(jī)

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    全國

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    單晶圓兆聲清洗機(jī)

    兆聲晶圓清洗機(jī)：
    First-Nano 兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及先進(jìn)的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了專利的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

    SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)應(yīng)用：

    • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
    • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
    • CMP處理后的晶圓片清洗
    • 晶圓框架上的切粒芯片清洗
    • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
    • 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
    • 掩模版空白部位或接觸部位清洗
    • X射線及極紫外掩模版清洗
    • 光學(xué)鏡頭清洗
    • ITO涂覆的顯示面板清洗
    • 兆聲輔助的剝離工藝

    SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)的特點：

    • 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
    • 獨立系統(tǒng)
    • 無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
    • 微處理機(jī)自動控制
    • 化學(xué)試劑滴膠單元
    • 溶劑與酸分離排廢
    • 熱氮
    • 30"D x 26"W 的占地面積

    SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)選配項：

    • 掩模板或晶圓片夾具
    • 臭氧清洗
    • PVA軟毛刷清洗
    • 高壓DI清洗
    • 氮氣離子發(fā)生器

     

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