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    CSE-單片清洗機

    庫       存：

    100

    產       地：

    全國

    數       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    CSE-單片清洗機

    設 備 名 稱

    CSE-單片清洗機

    類  型

    單片式

    適 用 領 域

    半導體、太陽能、液晶、MEMS等

    清 洗 方 式

    2英寸——12英寸

    設備穩(wěn)定性

    1、≥0.2um顆粒少于10顆

    2、金屬附著量:<3E10 atoms/ cm²

    3、純水消耗量：1L/min/片

    4、蝕刻均一性良好（SiO?氧化膜被稀釋HF處理）：≤2%

    5、干燥時間：≤20S

    6、藥液回收率：＞95%

    單片式優(yōu)點

    1、單片處理時間短（相較于槽式清洗機）

    2、節(jié)約成本（藥液循環(huán)利用，消耗量遠低于槽式）

    3、良品率高

    4、有效避免邊緣再附著

    5、立體層疊式結構，占地面積小

     


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