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    1200℃高真空CVD系統(tǒng)（雙溫區(qū)） 西尼特

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-熱蒸發(fā)

    產(chǎn)品品牌

    西尼特

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-北京市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：西尼特

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-熱蒸發(fā)

    CNT高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設(shè)備，廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域。

    高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機(jī)組、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。

    1、沉底材料可采用銅箔、石墨等；

    2、生長腔體采用進(jìn)口高純石英管，配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境；

    3、加熱腔體采用進(jìn)口陶瓷纖維加熱器，均溫區(qū)650mm、對開式結(jié)構(gòu)；

    4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì)，配水冷套，可連續(xù)長時間工作；

    5、氣路系統(tǒng)采用三路質(zhì)量流量計(jì)（可拓展多路）,配預(yù)混系統(tǒng)；

    6、真空系統(tǒng)采用分子泵機(jī)組；

    7、控制系統(tǒng)采用10寸觸摸屏加西門子PLC模塊；

    8、可選配RF射頻電源模塊;

    9、氣體種類： He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6

    10、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制，通過PC實(shí)時控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù)，自動保存實(shí)驗(yàn)參數(shù)，也可采用手動控制.

    11、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì)，控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子，方便整體移動。

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